論文 - 真壁　利明

Drift velocity of charged particles in gases: general relationship between drift velocities in position and velocity spaces

Toshiaki Makabe

Phys. Scr. 100   035615 (8pp)  2025年02月

研究論文（学術雑誌）, 単著

Historical development of electron swarm physics based on the Boltzmann equation towards in-depth understanding of a low-temperature collisional plasma (Topical Review)

T. Makabe and H. Sugawara

Plasma Sources Sci. Technol. 33   093001 (23pp) 2024年09月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Current status and new insights about the capacitively coupled electronegative plasma source: injection of energetic beam-like electrons to electrode

Toshiaki Makabe

J. Phys. D. 56    045203 (17pp)  2023年01月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Sustainability of active bulk plasma with high electronegativity in capacitive high frequency plasma

Toshiaki Makabe

Jap. J. Appl. Phys. 61   026002(6pp) 2022年02月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Review and current status: E-H mode transition in low-temperature ICP and related electron dynamics (Topical Review)

Toshiaki Makabe

Plasma Sources Sci. Technol. 30   023001(16pp) 2021年02月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Current status and nature of high-frequency electronegative plasmas: basis for material processing in device manufacturing (Invited Review)

Toshiaki Makabe

Jap. J. Appl. Phys. 58   110101(21pp) 2019年11月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Metastables as a probe for low-temperature plasma characteristics in argon (Topical Review)

Toshiaki Makabe

J. Phys. D. 52   213002(21pp) 2019年02月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Velocity distribution of electrons in time-varying low-temperature plasmas: progress in theoretical procedures over the past 70 years (Topical Review)

Toshiaki Makabe

Plasma Sources Sci. Technol. 27   033001(22pp) 2018年03月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Expression for momentum-transfer scattering in inelastic collisions in electron transport in a collisional plasma

T. Makabe and R. WHITE

J.Phys.D: Appl.Phys. （IOP）  48   485205(4pp) 2015年11月

共著, 査読有り

Monte Carlo analysis of ionization effects on spatiotemporal electron swarm development

S. Dujko, Z. M. Raspopovic, R. D. White, T. Makabe and Z. Lj. Petrovic

Eur. Phys. J: D 68   166-(9pp) 2014年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of local gas heating on a plasma structure driven at radio frequency in a microcell in Ar at atmospheric pressure

M. Yamasaki, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn. J. Appl. Phys. 53   036001(5pp) 2014年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A set of cross sections and transport coefficients for electrons in HBr

O. Sasic, S. Dujko, T. Makabe, and Z. Lj. Petrovic

Chem. Phys. 398   154-9 2012年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Low pressure nonequilibrium plasma for topdown nanoprocess

T. Makabe and T. Yagisawa

Plasma Sources Sci. Technol. 20   024011(12pp) 2011年04月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Workshop on atomic and molecular collision data for plasma modelling: database needs for semiconductor plasma processing

T. Makabe and T. Tatsumi

Plasma Sources Sci. Technol. 20   024014(6pp) 2011年04月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Actions of low- and high-energy electrons on the phase-transition between E and H modes in an inductively coupled plasma in Ar

Y. Hayashi, Y. Mitsui, T. Tatsumi, and T. Makabe

New J. Physics 13   073025(11pp) 2011年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Spatiotemporal optical structure of plasmas in the E-to-H mode transition in an inductively coupled plasma in Ar

S. Morishita, Y. Hayashi, and T. Makabe

Plasma Sources Sci. Technol. 19   055007(4pp) 2010年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Spatial distribution of nonemissive metastables in a two-frequency capacitively coupled plasma in Ar by using a pair of optical emission lines

T. Ohba and T. Makabe

Appl. Phys. Lett. 96   111501(3pp) 2010年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Nonequilibrium radio frequency plasma interacting with surface

T. Makabe and T. Yagisawa

Plasma Sources, Science and Technology 16   14016(9pp) 2009年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Numerical Investigation of Relationship between Micro-Scale Pattern, Interfacial Plasma Structure, and Feature Profile during Deep-Si Etching in Two-Frequency Capacitively Coupled Plasma in SF6/O2

F. Hamaoka, T. Yagisawa, and T. Makabe

J.Phys.D: Appl. Phys. 42   075201(9pp) 2009年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A method for evaluations on the radiation trapping in an inductively coupled plasma in argon

C. Scharwitz and T. Makabe

J. Appl. Phys. 106   113304(8pp) 2009年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Argon metastable state densities in inductively coupled plasma in mixtures of Ar and O2

Y. Hayashi, S. Hirao, Y. Zhang, T. Gans, D. O'connell, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J. Phys. D: Appl. Phys. 42   145206(6pp) 2009年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A numerical investigation of atomic oxygen density in an inductively coupled plasma in O2/Ar mixture

T. Sato and T. Makabe

J.Phys.D:Appl.Phys. 41   035211(6pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

In situ measurement of plasma charging on SiO2 hole bottoms and reduction by negative charge injection during etching

T. Ohmori and T. Makabe

Appl.Surface Science 254   3696-709 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics for low-energy electrons in a two-frequency capacitively coupled plasma in Ar

M. Ishimaru, T. Ohba, Y. Hayashi, T. Ohmori, K. Kitajima, and T. Makabe

Appl.Phys.Let. 92   071501(3pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of N2 dissociation in RF plasmas by vacuum ultraviolet emission and absorption spectroscopy

T. Kitajima, T. Nakano, S. Samukawa, and T. Makabe

Plasma Sources Sci. & Technol. 17   024018(7pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Space- and time-resolved E-H transition in an inductively coupled plasma in Ar

S. Hirao, Y. Hayashi, and T. Makabe

IEEE Trans. Plasma Sci. 36   1410-11 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Increased O(1D) metastable flux with Ar and Kr diluted oxygen plasmas and improved film properties of grown SiO2 film

T.Kitajima, N.Nakano, and T. Makabe

J.Vac. Sci. & Technol. A 26   1308-12 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of Si etchig under effects of plasma molding in two-frequency capacitively coupled plasma in SF6/O2 for MEMS fabrication

F.Hamaoka, T.Yagisawa, and T.Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 35   1350-8 2007年10月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical emission diagnostics of etching of low-k dielectrics in a two frequency inductively coupled plasma

M. Miyauchi, Y. Miyoshi, Zoran Lj. Petrovic, and T. Makabe

Solid-State Electonics 51   1418-24 2007年09月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Plasma etching and feature evolution of organic low-k material by using VicAdress

T.Makabe, T.Shimada, and T.Yagisawa

Computer Physics Communications 177   64-7 2007年02月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Guest editorial special issue on modeling and simulation of collisional low-temperature plasmas

D. J. Economou and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 35   1194 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effects of plasma modeling on feature profile of silicon micro-electro-mechanical systems through flux ion velocity distributions in two-frequency cpapcitively coupled plasma in SF6/O2

F. Hamaoka, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   3059-65 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients for electrons in mixtures of Ar and HBr

O.Sasic, S.Dujko, Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   3560-5 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Measurement of amount of pattern trim and surface chemistry for organic resist etching in an inductively coupled plasma in SO2-O2 gas mixtures

T. Goto and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   5297-303 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Data and modeling of negative ion transport in gases of interest for production of integrated circuits and nanotechnologies

Z.Lj.Petrovic, Z.M.Raspopovic, V.D.Stojanovic, J.V.Jovanovic, G.Malovic, T.Makabe, and J.de Urquijo

Appl. Surface Science 253   6619-40 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Numerical modeling of rf magnetron sputtering with metallic or dielectric target

T. Makabe and T. Yagisawa

Materials Sci. Forum 555   165-71 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Prediction of organic low-k material etching in two frequency capacitively coupled plasma

K. Ishihara, T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Plasma Physics and Controlled Fusion 48   B99-104 2006年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of feature profile evolution in SiO2 as functions of radial position and bias voltage under competition among charging, deposition, and etching in two-frequency capacitively coupled plasma

T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 45   8876-82 2006年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Evaluation of errors in feedback control based on persistence prediction in model-vased process controller system for deep sub-100nm gate fabrication

T. Goto and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 45   7645-54 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Self-consistent modeling of feature profile evolution in plasma etching and deposition

T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys.(Exp.Lett) 45   L132-4 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A modeling of DC magnetron plasma for sputtering: transport of sputtered copper atoms

T. Yagisawa and T. Makabe

J.Vac,Sci.Technol.A 24   908-13 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Increased O(1D) metastable density in highly Ar-diluted oxygen plasmas

T. Kitajima, T. Nakano, and T. Makabe

Appl.Phys.Lett. 88   091501(3pp) 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical diagnostics for plasma-surface interaction in CF4/Ar radio-frequency inductively coupled plasma during Si and SiO2 etching

Y. Miyoshi, M. Miyauchi, Y. Komukai, and T. Makabe

J.Vac.Sci.Technol.A 24   1718-24 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Oxygen atom density in rare gas diluted O2 radio frequency plasma

T. Kitajima, J. Nakashima, T. Nakano, and T. Makabe

Thin Solid Films 506-507   489-93 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Rare gas metastable atom density in diluted O2 RF plasmas

T. Kitajima, K. Takahashi, T. Nakano, and T. Makabe

IEEJ Trans. FM 126   37-42 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of radial uniformity at a wafer interface in a 2f-CCP for SiO2 etching

T. Yagisawa, T. Shimada, and T. Makabe

J.Vac.Sci.Technol.B 23   2212-17 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron transport coefficients in O2 magnetron discharges

R. D. White, K. E. Ness, R. E. Robson, and T. Makabe

J.Phys.D 38   997-1004 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients for electrons in argon in crossed electric and magnetic rf fields

Z. M. Raspopovic, D. Dujko, T. Makabe, and Z. Lj. Petrovic

Plasma Sources Sci. Technol. 14   293-300 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Three dimensional singular images of low pressure hydrogen-ICP in E-mode

Y. Miyoshi, M. Miyauchi, A. Oguni, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 33   362-3 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time-resolved measurement of charging on hole bottoms of SiO2 wafer exposed to plasma etching in a pulsed two- frequency capacitively coupled plasma

T. Ohmori, T. K. Goto, T. Kitajima, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys.(Exp. Lett.) 44   L1105-08 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of metastables on a sustaining mechanism in inductively coupled plasma in Ar

T. Sato and T. Makabe

J.Appl.Phys. 98   113304(3pp) 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of the influence of dielectric target on interface sheath characteristics in a radio-frequency magnetron sputtering

S. Kuroiwa, T. Mine, T. Yagisawa, and T. Makabe

J.Vac.Sci.Technol.B 23   2218-21 2005年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of N2-H2 capacitively coupled plasma for low-k material etching

C-H. Shon and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 32   390-8 2004年04月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Prediction of a radial variation of plasma structure and ion distributions in the wafer interface in 2-frequency capacitively coupled plasma

T. Yagisaw, K. Maeshige, T. Shimada, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 32   90-100 2004年02月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of driving frequency on oxygen atom density in O2 radio frequency capacitively coupled plasma

T. Kitajima, K. Noro, T. Nakano, and T. Makabe

J.Phys.D 37   2670-6 2004年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Negative charge injection to wafer in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma for oxide etching: diagnostics for an interface by emission selected-computerized tomography

T. Ohmori, T. Goto, and T. Makabe

J.Phys.D 37   2223-31 2004年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Funtional separation in two frequency operation of an Inductively Coupled Plasma

T. Denda, Y. Miyoshi, T. Goto, K. Komukai, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J.Appl.Phys. 95   870-6 2004年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Comparison of direct numerical procedure and Monte Carlo technique to determine the charging effects in submicron structures

Z. Lj. Petrovic, S. Sakadzic, N. Spasojevic, J. Matsui, and T. Makabe

Materials Sci. Forum 453-454   9-14 2004年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Negative charge injection to a positively charged SiO2 hole exposed to plasma etching in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF4/Ar

T. Ohmori, T. Goto, T. Kitajima, and T. Makabe

Appl.Phys.Lett. 83   4637-9 2003年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Negative mobilities of electron in radio frequency fields

S. Dujko, Z. M. Raspopovic, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 31   711-6 2003年08月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Temporal velocity distribution of positive and negative ions incident on a wafer in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF_4_/Ar for SiO_2_ etching

T. Yagisawa and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 31   521-7 2003年08月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron transport coefficients in SiH4 and Si2H6 in dc and rf fields

T. Shimada, Y.N akamura, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J.Phys.D: Appl.Phys. 36   1936-46 2003年07月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Magnetron plasma structure with strong magnetic field

E. Shidoji and T. Makabe

Thin Solid Films 442   27-31 2003年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Control of charging in high aspect ratio plasma etching of integrated circuits

Z.Lj. Petrovic and T. Makabe

TELSIKS 1   119-26 2003年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transition between capacitive and inductive mode in inductively coupled plasma observed by emission computerized tomography

Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 30   130-1 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Development of optical computerized tomography in CCP and ICP for plasma etching

T. Makabe and Z. Lj. Petrovic

Appl.Surf.Sci. 192   88-114 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Kinetic phenomena in electron transport in radio frequency fields

Z. Lj. Petrovic, Z. M. Raspopovic, S. Dujko, and T. Makabe

Appl.Surf.Sci. 192   1-25 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Vertically integrated computer aided design for device processing

T. Makabe and K. Maeshige

Appl.Surf.Sci 192   176-200 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Functional design of a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF4/Ar for SiO2 etching

K. Maeshige, G. Washio, T. Yagisawa, and T. Makabe

J.Appl.Phys. 91 （ 12 ） 9494-501 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of a wafer interface of a pulsed two frequency capacitively oupled plasma for oxide etching by emission selected computerized tomography

T. Fujita and T. Makabe

Plasma Sources Sci & Technol 11   142-5 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical computerized tomography of the E-H transition in inductively coupled plasmas in Ar and Ar-CF4 mixtures

Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J. Phys. D: Appl. Phys. 35   454-61 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of gas pressure and magnetic field upon dc magnetron discharge”

E. Shidoji, K. Ness and T. Makabe

VACUUM 60   299-306 2001年03月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

The effect of topographical local charging on the etching of deep-submicron structures in SiO_2_ as a function of aspect ratio"

J. Matsui, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

Appl.Phys.Let. 78   883-5 2001年02月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Radio-Frequency plasma modeling for low-temperature processing

T. Makabe

Adv.in Atomic, Molecular and Optical Physics 44   127-54 2001年01月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Future TCAD system for nanometer-scale-device manufacturing using plasma etching

T. Makabe, J. Matsui, and K. Maeshige

AIPP    2263-71 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional modeling of a micro cell plasma in a mixture of Ne/Xe driven by a capacitively coupled high-frequency source

M. Kurihara and T. Makabe

J.Appl.Phys. 89   7756-63 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients and scattering cross-sections for plasma modeling in CF4-Ar mixtures: a swarm analysis

M. Kurihara, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe

J.Phys.D: 33   2146-53 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical emission spectroscopy of pulsed inductively coupled plasma In Ar

K. Hioki, N. Itazu, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 40   L1183-6 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Non-equillibrium plasmas in telecommunication related technologies

Z. Lj. Petrovic, Z. M. Paspopovic, and T. Makabe

TELSIKS 1   371-380 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of aspect ratio on topographic dependent charging in oxide etching

J. Matsui, K. Maeshige, and T. Makabe

J.Phys.D 34   2950-5 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A series of modeling of plasma etching and damage reduction: -Vertically integrated computer aided design for device precessing-

T. Makabe, J. Matsui, and K. Maeshige

Sci.Technol.of Adv. Materials 2   547-54 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A comparative study of an unbalanced magnetron with dielectric substrate with a conventional magnetron through the use of hybrid modeling

E. Shidoji, E. Ando, and T. Makabe

Plasma Sources Sci. Technol. 8   621-6 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Predictive study of a plasma structure and function in reactive ion etcher driven by very high frequency: Validity of an extended two-dimensional relaxation continuum model

K. Maeshige, M. Hasebe, Y. Yamaguchi and T. Makabe

J.Appl.Phys. 88   4518-24 2000年10月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron transport in argon in crossed electric and magnetic fields

K. Ness and T. Makabe

Phys. Rev. E 62   4083-90 2000年09月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients and scattering cross-sections for plasma modeling in CF4-Ar mixtures: a swarm analysis

M. Kurihara, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J.Phys.D 33   2146-53 2000年09月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Functional separation of biasing and sustaining voltages in two-frequency capacitively coupled plasma

K. Kitajima, Y. Takeo, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe

Appl.Phys.Let 77   489-91 2000年07月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diffusin of electronin time- dependent E(t)×B(t) fields

Z. Raspopovic, S. Sakadzic, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J.Phys.D 33   1298-1302 2000年06月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Micro-Cell-Plasma driven by high frequency voltage source

M. Kurihara and T. Makabe

J.Plasma and Fusion Research 76   444-8 2000年05月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of an inductively coupled CF4/Ar plasm

K. Hioki, H. Hirata, S. Matsumura, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe

J.Vac.Sci.Technol.A, 18   864-72 2000年05月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Simulation of Magnetron Plasma

T. Makabe

J.Vac.Soc.Jpn. 43   767-72 2000年05月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Numerical study of effects of frequency in inductively coupled plasma using Particle-in-Cell/Monte Carlo simulation

J-S. Oh and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 39   1358-64 2000年03月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling and diagnostics of two-frequency pulsed ccp and related charging in the microstructure of SiO2 trench

T. Makabe

J.Tech.Phys. 41   345-59 2000年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Two-dimesional CT images of two-frequency capacitively coupled plasma

T. Kitajima, Y. Takeo, and T. Makabe

J.Vac.Sci.Technol.A 17   2510-16 1999年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional modeling of a micro- cell plasma in Xe driven by high frequency

M. Kurihara and T. Makabe

IEEE Trans.on Plasma Sci. 27   1372-8 1999年10月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Drift velocities of electrons in time varying electric fields

S. Bzenic, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 38   6077-83 1999年10月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Prediction of the evolution of the erosion profile in a direct current magnetron discharge

K. Okazawa, E. Shidoji and T. Makabe

J.Appl.Phys. 86   2984-9 1999年09月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Dependence of driving frequency on capacitively coupled plasma in CF4

S. Segawa, M. Kurihara, N. Nakano, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 38   4416-22 1999年07月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A numerical study of a collision-dominated inductively coupled plasm using article-in-Cell/Monte Carlo simulation

J-S. Oh and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 38   4423-8 1999年07月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional self-consistent simulation of a DC magnetron discharge

E. Shidoji, H. Ohtake, N. Nakano, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 38   2131-6 1999年04月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two dimensional images of radiative and metastable excited state radial profiles for an inductively coupled plasma in argon

H. Hirata, M. Tadokoro, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci.    50-1 1999年03月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional modeling of spatiotemporal structure of coupled plasma

K. Kamimura, K. Iyanagi, N. Nakano, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 38   4429-35 1999年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Pulsed plasmas and related electron energy control for dry etching

T. Makabe and Z.Lj.Petrovic

Physics of Ionized Gases    305-325 1999年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Numerical simulation of the discharge in d.c. magnetron sputtering

E. Shidoji, N. Nakano, and T. Makabe

Thin Solid Films 351   37-41 1999年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of frequency on the two-dimensional structure of capacitively coupled plasma in Ar

T. Kitajima, Y. Takeo, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 84   5928-36 1998年12月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional density distribution of metastable atoms in an inductively coupled plasma in Ar

M. Tadokoro, H. Hirata, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe

Phys.Rev.E 58   7823-30 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time resolved optical emission spectroscopy of an inductively coupled plasma in argon and oxygen

M. Tadokoro, H. Hirata, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T.Makabe

Phys.Rev.E 57   R43-6 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electoron transport to a substrate in a radio frequency capacitively coupled plasma by the Boltzmann equation

J. Matsui, M. Shibata, N. Nakano, and T.Makabe

J.Vac.Sci.Technol.A 16   294-9 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Phasespace modelling of a radiofrequency plasma interacting with surfaces

T.Makabe, J.Matsui, and N.Nakano

Pure & Appl.Chem. 70   1187-91 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A novel sustaining mechanism in capacitively coupled radio frequency plasma in oxygen.

M. Shibata, T.Makabe, and N. Nakano

Jpn.J.Appl.Phys. 37   4182-5 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Nonequilibrium plasmas for material processing in microelectronics

Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe

Advanced Materials and Processes 282/3   47-56 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of an inductively coupled plasma in oxygen

M. Tadokoro, A. Itoh, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 26   1724-32 1998年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Charged particle transport in harmonically varying electric fields:Foundations and Phenomenology

R.E.Robson and T.Makabe

Annals of Physics 261   74-113 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

The effect of laser-induced photo-detachment in O_2_ RF discharges

M.Shibata，N.Nakano and T.Makabe

J. Phys. D 30   1219-24 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

The time resolved two-dimensional profile of a radiofrequency capacitively coupled plasma

T.Kitajima，M.Izawa，N.Nakano，and T.Makabe

J. Phys. D 30   1783-9 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diffusion tensor in electron transport in gases in a radio-frequency field

K.Maeda，T.Makabe，N.Nakano，S.Bzenic，and Z.Lj.Petrovic

Phys. Rev. E 55   5901-08 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two dimensional transport of submicron particles in CCP reactor

R. Hashido, M. Hasebe, Y. Hosokawa, N. Nakano, Y. Yamaguchi, and T.Makabe

Jpn. J. Appl. Phys. 36   3707-13 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Three dimensional optical emission tomography of an inductively coupled plasma

A.Okigawa, M.Tadokoro, A.Itoh, N.Nakano, Z.Lj.Ptorovic, and T.Makabe

Jpn. J. Appl. Phys. 36   3707-3713 1997年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Comparative study of the characteristics between CCP and ICP by 2D-modeling / diagnostics

T. Makabe and N. Nakano

Elec.Chem.Soc.Proc. 96-12   1-10 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Tomographic images of a plasma structure and sputtered particle in a DC magnetron discharge

A.Itoh，T.Makabe， N.Shimura，and S.Tougo

IEEE Trans. on Plasma Sci. 24   109-10 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Robot assisted opotical emission tomography in an inductively coupled plasma reactor

A.Okigawa，T.Makabe，T.Shibagaki，N.Nakano， Z.Lj.Petrovic，T.Kogawa，and A.Itoh

Jpn.J.Appl.Phys. 35   1890-3 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Computer-assisted optical emission tomography in a radiofrequency capacitively coupled plasma

K.Kitajima，M.Izawa，R.Hashido，N.Nakano，and T.Makabe

Appl. Phys. Lett. 69   758-60 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of a non-equilibrium inductively coupled plasmas in argon

A. Okigawa, Z. Petrovic, M. Tadokoro, T. Makabe, N. Nakano, and A. Itoh

Appl. Phys. Lett. 69   2644-6 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of O2(a^1Δg) on plasma structure in oxygen rf discharges

M. Shibata, N. Nakano and T. Makabe

J. Appl. Phys. 80   6142-7 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of narrow gap reactive ion etcher by the relaxation continuum model

N. Nakano and T. Makabe

Physics of Ionized Gases    269-78 1996年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Robot assisted optical emission tomography in a CCP and ICP

T.Makabe

Physics of Ionized Gases    257-68 1996年

研究論文（国際会議プロシーディングス）, 単著, 査読有り

Modeling of negative ion plasma (in Japanese)

T.Makabe

J.Plasma & Fusion Reseach 52   1138-43 1996年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Effect of surface material on spatio-temporal structure in O2 RF glow discharge

M.Shibata，T.Makabe，and N.Nakano

Jpn.J.Appl.Phys. 34   6230-6 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of driving frequency on narrow-gap reactive-ion etching in SF6

N. Nakano and T.Makabe

J. Phys. D 28   31-9 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Study of surface charges on dielectric electrodes in a radio-frequency glow discharge

S. Kakuta, T. Kamata, T.Makabe, S. Kobayashi, K. Terai, and T. Tamagawa

J.Appl.Phys. 77   985-91 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

O2 rf discharge structure in parallel plates reactor at 13.56MHz.

M.Shibata，N.Nakano, and T.Makabe

J.Appl.phys 77   6181-7 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling and measurement of submicron particles in RF plasmas in Ar.

Y.Hosokawa，T.Kitajima, and T.Makabe

Aust.J.Phys 48   439-52 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Frequency variation of the mean energy of rf electron swarm.

R.E.Robson，K.Maeda，T.Makabe and R.D.White

Aust.J.Phys 48   335-46 1995年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Recent progress and issues in low temperature plasma modeling for material processings (in Japanese)

T.Makabe

Oyo Buturi 64   547-552 1995年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Low temperature SF6 plasma and related semiconductor processings (in Japanese)

T.Makabe

IEE of Jpn. 115(8)   492-4 1995年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Radiofrequency electron swarm transport in gases

K.Maeda and T.Makabe

AIAA 160-160   333-43 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

The radical transport in the narrow-gap-reactive-ion etcher in SF6 by the relaxation continuum model

N.Nakano，Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 33   2223-30 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Simulations of rf glow discharge in SF6 by the relaxation continuum model: Physical structure and function of the narrow-gap reactive-ion etcher

N.Nakano，N.Shimura，Z.Lj.Petrovic and T.Makabe

Phys. Rev. E 49   4455-65 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients and velocity distribution function of an ion swarm in an A.C.electric field obtained from the BGK kinetic equation

R.Robson and T.Makabe

Aust.J.Phys. 47   305-14 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of Ar metastable on the discharge structure in Ar and N2 mixture in RF discharges at 13.56 MHz

F.Tochikubo，Z.Lj.Petrovic，S.Kakuta，N.Nakano and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 33   4271-5 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time-dependent RF swarm transport by direct numerical procedure of the Boltzmann Equation

K.Maeda and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 33   4173-6 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A study of the sustaining mechanism in an inductively coupled plasma

K.Kondo，H.Kuroda, and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 33   4254-7 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Experimental study of very-high-frequency plasmas in H2 by spatiotemporally resolved optical emission spectroscopy

S.Kakuta，T.Kitajima，Y.Okabe and T.Makabe

Jpn. J. Appl. Phys. 33   4335-9 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Spatiotemporal characteristics determined by a relaxation continuum model of an inductively coupled plasma

K.Kondo，H.Kuroda and T.Makabe

Appl. Phys. Lett. 65   31-3 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A correlation between particle growth and spatiotemporal RF plasma structure

T.Kamata，S.Kakuta，Y.Yamaguchi and T.Makabe

Plasma Sources Sci.Technol.3    310-13 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Radiofrequency electron swarm transport in reactive gases and plasmas

T. Makabe and K. Maeda

Physica Scripta T53   61-9 1994年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Investigation of the ion ejection mechanisms of gallium liquid metal ion sources

Y. Nakayama and T.Makabe

J.Phys.D 26   1769-75 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Computer simulation of plasma etching (in Japanese)

T.Makabe

Plasma & Fusion Research 69   15-26 1993年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

RF plasma structures and its production efficiency in the frequency range from HF to VHF.-Computational investigation-.

T. Kitamura, N. Nakano, T.Makabe, and Y. Yamaguchi

Plasma Sources Sci. Technol 2   40-5 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Theoretical analysis of electron velocity distributions and transport coefficients in HCl in a DC electric field.

N. Shimura and T.Makabe

Jpn.J.App.Phys. 32   949-54 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron velocity distribution function in a gas in ExB fields.

N. Shimura and T.Makabe

Appl.Phys.Lett. 62   678-80 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Spatiotemporal optical emission spectroscopy of RF discharges in SF6

Z. Petrovic, F. Tochikubo, S. Kakuta, and T.Makabe

J.Appl.Phys. 73   2163-72 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

RF plasma for i-carbon deposition (in Japanese)

T.Makabe

New Diamond 9   14-9 1993年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Frequency dependence on the structure of RF glow discharges in Ar.

S. Kakuta, T.Makabe and F. Tochikubo

J.Appl.Phys. 74   4907-14 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of frequency，pressure and mixture ratio of electronegative gas on electrical characteristics of rf discharges in N2 - SF6 mixtures

S. Kakuta, Z. Lj. Petrovic, and T.Makabe

J.Appl.Phys. 74   4923-31 1993年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of physical etching based on a two-dimensional velocity distributions of ions and fast neutrals by the Boltzmann equation

T. Tokonami and T.Makabe

J. Appl. Phys. 72   3323-9 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling and diagnostics of structure in RF glow discharges in Ar at 13.56 MHz

T.Makabe, N. Nakano, and Y. Yamaguchi

Phys. Rev. A 45   2520-31 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Study of the structure in RF glow discharges in CH4 and H2 by spatiotemporal optical emission spectroscopy

F. Tochikubo, T.Makabe, S. Kakuta, and A. Suzuki

J. Appl. Phys. 71   2143-50 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Structure of velocity distribution functions and transport parameters of electron swarm in CH4 in a DC electric field

N. Shimura and T.Makabe

J. Phys. D. 25   751-60 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of DC-magnetron discharges by emission-selected CT technique

S. Miyake, A. Itoh, N. Shimura, and T.Makabe

J. Vac. Sci. Technol. A    1135-9 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of reactive non-equilibrium plasmas (in Japanese)

T.Makabe

Oyo Buturi  60   663-73 1992年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Phase transition in DC Discharges in SiH4

Y. Yamaguchi and T.Makabe

Jpn. J.Appl. Phys. 31    L1291-4 1992年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Absolute measurement of the excitation rate and density of the excited species in an RF discharge from the optical emission spectroscopy

F. Tochikubo and T.Makabe

Meas. Sci. Technol. 2   1133-7 1991年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Periodic behavior of electron swarm parameters in Ar in an RF Field.

I. Yamanashi, N. Goto, and T.Makabe

Trans. IEEE of Japan 111-A   168-74 1991年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron swarm in a gas discharge (in Japanese)

H. Tagashira and T.Makabe

Trans. IEE of Japan 111-A   131-8 1991年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Recent progress in microscopic modeling of an RF plasma CVD

T.Makabe

Proc.13th Symp. Ion Sources & Ion-Assisted Technol.    193-202 1990年

研究論文（国際会議プロシーディングス）, 単著, 査読有り

Diagnostics of high-frequency discharges in CH4 / H2 by time-and space-resolved optical emission spectroscopy

T.Kokubo, F.Tochikubo, and T.Makabe

Appl. Phys. Lett. 56   818-20 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

同心円筒形DCグロー放電によるa-Si:H成膜時の基板加熱の解析

Y. Yamaguchi, S. Imano, K. Matsumura, and T.Makabe

Kagaku Kougaku Ronbunshu 16   605-13 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time-dependent electron swarm parameters in RF fields in CH4 and H2

N. Goto and T.Makabe

J. Phys. D 23   686-93 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Investigation of the high frequency glow discharges in Ar at 13.56 MHz by spatiotemporal optical emission spectroscopy

F. Tochikubo, S. Kakuta, A. Suzuki, and T.Makabe

J. Phys. D 23   1184-92 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of negative ions in RF glow discharges in SiH4 at 13.56 MHz

T.Makabe, F. Tochikubo, and N. Nishimura

Phys. Rev. A 42   3674-7 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Study of the structure in RF glow discharges in SiH4 by spatiotemporal optical emission spectroscopy.-Influence of negative ions-

F. Tochikubo, A. Suzuki, S. Kakuta, Y. Terazono, and T.Makabe

J.Appl.Phys. 68   5532-9 1990年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron kineties in RF Discharges (in Nonequilibrium processes in partially ionized gases)

T.Makabe

NATO ASI.Ser.B 220   467-77 1990年

研究論文（国際会議プロシーディングス）, 単著, 査読有り

Diagnostics of low frequency CH4+H2 discharge by optical emission spectroscopy

T.Kokubo, F.Tochikubo, and T.Makabe

J. Phys. D 22   1281-7 1989年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A modeling of amorphous silicon deposition in silane dc-glow dicharges

Y. Yamaguchi, A. Sumiyama, R. Hattori, Y. Morokuma, and T.Makabe

J. Phys. D 22   505-11 1989年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of an RF glow discharge plasma

K. Okazaki, T.Makabe, and Y. Yamaguchi

Appl. Phys. Lett. 54   1742-4 1989年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Recent theoretical advances in modeling of low pressure processing plasma

T.Makabe

Proc. Jpn. Symp. Plasma Chemistry 1   1-10 1988年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Time-behaviour of electron transport in radio-frequency fields in gases

T.Makabe and N.Goto

J. Phys. D 21   887-95 1988年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time-and space-resolved spectroscopy of elecron transport in low-freguency discharge plasma in argon.

T.Makabe and M.Nakaya

J.Phys.D 20   1243-9 1987年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of the finite mass-ratio on the charged-particle transport in gases.

T.Makabe

J. Phys. Soc. Japan 55   2496-9 1986年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Energy distributions of alkali ions in rare gases.

T.Makabe

Physics of Ionized Gases    153-6 1986年

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Measurement of electron and ion transport in RF discharge plasma.

T.Makabe

Physics of Ionized Gases    157-9 1986年

研究論文（国際会議プロシーディングス）, 単著, 査読有り

Diffusion tensor of electron swarm in electric field in gases. II The influence of the conservative inelastic collisions.

T.Makabe and M.Shimoyama

J. Phy. D 19   2301-08 1986年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Investigation of the energy distributions of cesium ions in argon. I.Drift-Tube mass identified energy analysis

T.Makabe and H.Shinada

J. Phys. D 18   2385-93 1985年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Spectroscopic investigations of N2(A^3Σu^+）metastables in the spatial ionisation growth in nitrogen.

T.Makabe, H. Awai, and T. Mori

J.Phys.D 17   2367-76 1984年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diffusion tensor of electron or light ion swarm in electric fields in gases.

T.Makabe and T.Mori

J. Phys. D 17   699-708 1984年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Time evolution of ion swarm transport in a constant mean free encounter region.

T.Makabe, K. Misawa, and T. Mori

J. Phys. D 16   1893-1900 1983年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Anisotropic velocity distribution representation of the electron swarm in a weakly ionized gas

T.Makabe and T.Mori

Trans. IEE of Japan E 102   101-08 1982年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Variations in electron transport in argon with temperature near the Ramsauer-Townsend minimum.

T.Makabe and T.Mori

J. Phys. D 15   1395-1402 1982年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Velocity distribution function of ion swarm in a weakly ionised gas in a constant mean free time encounter region.

T.Makabe, K. Misawa and T. Mori

J. Phys. D 14   199-206 1981年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Theoretical analysis of the electron energy distribution function in a weakly ionized gas under a relatively high E/N.

T.Makabe and T.Mori

J. Phys. D 13   387-96 1980年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron swarm having an anisotropic velocity distribution function

T.Makabe and T.Mori

J.de Physique 40(C7)   43-4 1979年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Exprimental and theoretical analysis of the electron energy distribution functions in Townsend discharges in xenon

T.Makabe and T.Mori

J. Phys. B: Atom Molec.Phys 11   3785-94 1978年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Experimental determination of electron energy distribution functions in Townsend discahrges in argon

T.Makabe, T.Goto, and T.Mori

J. Phys. B: Atom Molec.Phys. 10   1781-8 1977年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Townsend放電域へのBoltzmann方程式の適用について

T.Makabe, T.Goto, and T.Mori

Trans. IEE Japan 95-A   357-64 1975年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

弱電離ガス中の電子エネルギー分布関数ならびに輸送係数のモンテカルロ・シミュレーション

T.Makabe, T.Goto, and T.Mori

Trans. IEE Japan  93-A   229-36 1973年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Rigorous simulation for weakly ionized gases

T.Makabe, T.Goto, and T.Mori

IEE CP  （ (9) ） 379-81 1972年

研究論文（国際会議プロシーディングス）, 共著, 査読有り