Papers - Hirashima, Hiroshi

Direct deposition of mesoscopically assembled dye-doped silica films from aqueous solutions of silicon alkoxides

HIRASHIMA HIROSHI, OH JUNROK, IMAI HIROAKI

Chemistry of Materials 10 ( 6 ) 1582-1588 1998.06

Research paper (scientific journal), Joint Work, Accepted

Oxide aerogel catalysts

H.Hirashima, C.Kojima, K.Kohama, H.Imai, V.Balek, H.Hamada, M.Inaba

J.Non-Cryst.Solids, (1998) Vol.225   153-156 1998.04

Joint Work

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種々の遷移金属酸化物を添加したアルミナ・エ－ロゲルの、炭化水素によるＮＯｘ選択還元反応触媒としての活性を比較検討して、触媒活性に及ぼす添加物の効果およびゲルの微細構造の影響を明らかにした。

Defects in amorphous silica induced with monochromatic VUV rays

K.Awazu, K.Kanehira, H.Imai, H.Hirashima

Nucl.Instr.Methods in Physics Res., B, (1998) Vol.141   583-593 1998

Joint Work

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アモ－ファス・シリカに真空紫外線を照射すると発生する構造欠陥の構造をよび成因を検討した。

Modification and densification of sol-gel derived silica films at low temperature

H.Imai, H.Hirashima, K.Awazu, H.Onuki

SPIE Proceedings, (1997) Vol.3136   144-149 1997.07

Joint Work

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ゾル-ゲル法によって作製したシリカ薄膜が真空紫外線照射により低温で緻密化する現象に関する知見をまとめて、その機構を検討している。

Structural changes in sol-gel derived SiO2 and TiO2 films by exposure to water vapor

H.Imai, H.Morimoto, A.Tominaga, H.Hirashima

J.Sol-Gel Sci.Tech. (1997) Vol.10   45-54 1997.04

Joint Work

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ゾル-ゲル法によって作製したシリカならびにチタニア・ゲル膜を水蒸気処理して緻密な 薄膜が得られることを明らかにし、その際の構造変化を検討、緻密化機構を提案した。

Deposition process and property of silica films containing organic groups from aqueous solution of alkoxides

J.Oh, H.Imai, H.Hirashima, K.Tsukuma

J.Mater.Res., (1997) Vol.12   1-9 1997.04

Joint Work

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有機官能基を有するシリコン・アルコキシド水溶液からの直接析出によって得られる有機官能基含有シリカ膜の構造およびその析出機構を検討、明らかにした。

Densification of sol-gel derived thin films by ultraviolet and vacuum ultraviolet irradiation

H.Imai, K.Awazu, M.Yasumori, H.Onuki, H.Hirashima

J.Sol-Gel.Sci.Tech., (1997) Vol.8   365-369 1997.03

Joint Work

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ゾル-ゲル法によるシリカ薄膜の紫外線および真空紫外線照射による緻密化ならびに構造 変化に関する知見をまとめて、その変化の機構を明らかにしている。

Application of alumina aerogels as catalysts

H.Hirashima, C.Kojima, H.Imai

J.Sol-Gel Sci.Tech., (1997) Vol.8   843-846 1997.03

Joint Work

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超臨界乾燥法によって作製したアルミナ・エ－ロゲルが炭化水素によるＮＯｘの選択還元反応に対して他界触媒活性を持つことをあきらかにした。

ゾル－ゲル法によるコーディエライトセラミックスの結晶化過程に及ぼすAl/Si比率の 影響

呉濬禄、今井宏明、平島碩

日本セラミックス協会学術論文誌、(1997) Vol.105   43-47 1997.01

Joint Work

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ゾル-ゲル法によって作製したコ－ディエライト粉体の結晶化過程および焼結挙動に及ぼ す Al/Si 比の影響を明らかにし、Al/Si 比の制御により従来法より低い、1000℃以下で コ－ディエライト相が生成することを示し、またその原因をも明らかにした。

Direct deposition of silica films containing organic groups and dyes from silicon alkoxide solutions

J.Oh, H.Imai, H.Hirashima, K.Tsukuma

Mater.Res.Soc.Symp.Proc., (1996) Vol.435   409-414 1996.09

Joint Work

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有機官能基を有するシリコン・アルコキサイドと有機色素の溶液からの直接析出によって色素含有シリカ薄膜が得られることを明らかにし、その生成機構および生成した膜の構造を検討した。

ガラス薄膜導波路における２次の非線形光学効果

堀之内英、今井宏明、山崎英亮、張公倹、三戸慶一、平島碩、佐々木敬

電子情報通信学会論文誌、(1996) Vol.J79-C-1   287-294 1996.08

Research paper (conference, symposium, etc.), Joint Work

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コロナ・ポ－リングをほどこしたガラス薄膜の２次非線形光学効果およびその発現機構をガラス組成の影響等に基づいて検討した。

Significant densification of sol-gel derived amorphous silica films by vacuum ultra-violet irradiation

H.Imai, M.Yasumori, H.Hirashima, K.Awazu, H.Onuki

J.Appl.Phys. (1996) Vol.79   8303-8309 1996.06

Joint Work

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真空紫外光照射によるアモ－ファス・ゾル-ゲル膜の緻密化と構造変化を赤外線吸収スペ クトルによりあきらかにし、構造変化機構を提案した。

非線形ガラス薄膜光導波路による第二高調波発生

堀之内英、山崎英亮、今井宏明、深尾和弘、張公倹、木下岳司、三戸慶一、平島碩、佐々木敬介

回路実装学会誌、(1), (1996) Vol.11   29-35 1996.01

Research paper (scientific journal), Joint Work

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コロナ・ポ－リング処理した、アルカリ土類酸化物等を含有するガラス薄膜の２次非線形光学効果、およびこれによる第二高調波発生に及ぼすガラス組成とポ－リング条件の影響を明らかにし、２次非線形光学効果発現の機構を検討した。

Chemical modification of alkoxide precursors for lead zirconate titanate formation

S.Tursiloadi, H.Imai, H.Hirashima

Australian J.Chem., (1996) Vol.49   569-572 1996

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ゾル-ゲル法によるＰＺＴ合成の際、出発物質である金属アルコキシドに対するアセチル アセトン等による化学修飾の影響を明らかにした。

Time dependence decay of quadratic non-linearlity in corona-poled silicate glass films

S.Horinouchi, Y.Uchida, H.Yamasaki, K.Fukao, G.Zhang, T.Kinoshita, K.Mito,H.Hirashima, K.Sasaki

J.Non-Cryst.Solids, (1996) Vol.196   63-66 1996

Joint Work

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コロナ・ポ－リング処理した、アルカリ土類酸化物等を含有するガラス薄膜の２次非線形光学効果の経時変化による減衰を測定し、その原因を検討すると共に、２次非線形光学効果発現の機構を検討した。

Second order nonlinear optical properties in silica-based glass film waveguides

S.Horinouchi, H.Imai, H.Yamasaki, K.Fukao, G.Zhang, T.Kinoshita, K.Mito, H.Hirashima, K.Sasaki

Int.J.Nonlinear Optical Physics, (1996) Vol.5   189-204 1996

Joint Work

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コロナ・ポ－リング処理した、アルカリ土類酸化物等を含有するガラス薄膜の２次非線形光学効果およびこれによる第二高調波発生の機構を検討した。

Photo-induced structural change in a-SiO2 with undulator radiation

K.Awazu, H.Onuki, H.Imai, H.Hirashima

J.Electron Spectroscopy and Related Phenomena, (1996) Vol.80   69-72 1996

Joint Work

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シンクロトロン軌道放射による真空紫外光照射が引き起こすアモ－ファス・シリカの構造変化を明らかにし、その機構を検討した。

Crystallization and sintering behavior of PZT prepared from metal alkoxides

S.Tursiloadi, H.Imai, H.Hirashima

Seramikkusu-Ronbun-Shi, (1995) Vol.103   1069-1072 1995.09

Joint Work

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ゾル-ゲル法により作製したＰＺＴ粉体の熱処理による結晶化過程をＸ線回折により明ら かにすると共に、その猖獗挙動および得られた焼結体の誘電体特性を検討した。

Effects of aging and drying on structure of V2O5 gels

H.Hirashima, M.Gengyo, C.Kojima, H.Imai

J.Non-Cryst.Solids, (1995) Vol.186   54-58 1995.04

Joint Work

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V2O5 ゲルの構造およびそのエ－ジングによる変化をＸ線小角散乱に基づくフラクタル次 元解析によって検討して、乾燥ゲルの構造、物性に及ぼすエ－ジングの影響を明らかにした。

Densification of SiO2 gel films by synchrotron radiation and its dependence on photon energy

H.Imai, K.Awazu, M.Yasumori, H.Hirashima, H.Onuki

Mater.Res.Soc.Symp.Proceedings, (1995) Vol.375   39-43 1995.04

Joint Work

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アンジュレ－タ－を使用したシンクロトロン軌道放射により波長を変化させた真空紫外光照射によってゾル-ゲル・シリカ薄膜を緻密化し、その波長依存性を検討した。