Papers - Hirashima, Hiroshi

Preparation of Sol-Gel Thin Films by Electrophoretic Deposition

H.Hirashima, M.Takemori, M.Horiuchi, Y.Obu, T.Nagai

Sol-Gel Processing and Applications' Ed. Y.A.Attia, Plenum Press, New York (1994)    103-109 1994.11

Joint Work

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電気泳動法により ZrO2、PZT、Ta2O5 のゾル-ゲル薄膜を作製してその作製条件と物性の 関係を検討した。ディップ・コ－ティング法による薄膜と比較して緻密で均一な薄膜が得られることが明らかにされた。

Structural Change in Sol-Gel Derived SiO2 Films Using Ultraviolet Irradiation

H.Imai, H.Hirashima, K.Awazu, H.Onuki

SPIE Proceedings, , (1994) ('Sol-Gel Optics Ⅲ', Ed. J.D.Mackenzie) Vol.2288   171-176 1994.11

Research paper (conference, symposium, etc.), Joint Work

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ゾル-ゲル法により作製した SiO2 薄膜にシンクロトロン軌道放射による真空紫外光を照射すると密度、屈折率が増加することを明らかにし、その構造変化の機構を検討した。

Modification of Sol-Gel Thin Films by Ion Implantation

H.Hirashima, K.Adachi, H.Imai

SPIE Proceedings, , (1994) ('Sol-Gel Optics Ⅲ', Ed. J.D.Mackenzie) Vol.2288   33-44 1994.11

Joint Work

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ゾル-ゲル法により作製した TiO2 薄膜に 100〜150 keV のＢおよびＡｒイオンを注入して、膜の構造の変化を検討し、イオン注入による緻密化および化学的な構造変化が起こることを明らかにした。

Novel modification method of sol-gel thin films, densification of silica gel film with electronic excitation

H.Imai, H.Hirashima, K.Awazu, H.Onuki

J.Ceramic Society of Japan, (1994) Vol.102   1094-1096 1994.11

Joint Work

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ゾル-ゲル法による SiO2 薄膜にシンクロトロン軌道放射による真空紫外光を照射して緻 密化する際の構造変化について検討し、電子励起による構造変化機構を提案した。

Intrinsic and Extrinsic Defect Formation in Silica Glasses by radiation

H.Imai, H.Hirashima

J.Non-Cryst.Solids, (1994) Vol.179   202-213 1994.11

Joint Work

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シリカガラスに γ-rays、ＵＶレ－ザ－光等を照射した際に生成する構造欠陥の成因を検 討して、欠陥生成機構を提案した。

Structure of V2O5 Xerogels and Aerogels by SAXS

H.Hirashima, S.Sasaki, M.Gengyo

Sol-Gel Processing and Applications',　Ed. Y.A.Attia, Plenum Press, New York (1994)    61-65 1994.11

Joint Work

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V2O5 乾燥ゲル（キセロゲルおよびエ－ロゲル）の微細構造をＸ線小角散乱（ＳＡＸＳ） 測定によって求めたフラクタル次元に基づいて検討した。

Modification of Sol-Gel Thin Films by Ion Implantation

H.Hirashima, K.Adachi, H.Imai

Mater.Res.Soc.Symp.Proceedings, (1994) Vol.346   183-188 1994.09

Joint Work

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ゾル-ゲル法により作製した TiO2 薄膜に 100〜150 keV のＢおよびＡｒイオンを注入すると膜が緻密化することを明らかにし、ゾル-ゲル膜の低温緻密化、改質の可能性を検討した。

Similarity of Defect Generation in Silica Glasses Irradiated with γ-rays and 5.0- and 6.4-eV Eximer Lasers

H.Imai, H.Hirashima

Nuclear Inst.Methods in Phys. Res., (1994) Vol.B91   400-404 1994

Joint Work

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シリカガラスに γ-rays を照射した際に生成する構造欠陥とエキシマ・レ－ザ－を照射して生成する欠陥の類似性を明らかにし、欠陥構造の生成機構を検討した。

Structure and Physical Properties of V2O5 Aerogels and Xerogels

H.Hirashima, K.Sudoh

Bol.Soc.Esp.Ceram.Vid., (7), (1992) (Proc.ⅩⅥ.ICG) Vol.31-C   51-55 1992.10

Joint Work

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V2O5湿潤ゲルの超臨界乾燥によりエ－ロゲルおよびエ－ロゲル・コ－ティングを得て、その微細構造、物理的性質を明らかにし、常圧乾燥によるキセロゲルと比較した。

Structure and Electrical Properties of Vanadium Tellurite Glasses

H.Hirashima, E.Tamura

Bol.Soc.Esp.Ceram.Vid., (4), (1992) (Proc.ⅩⅥ.ICG) Vol.31-C   133-138 1992.10

Joint Work

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V2O5-TeO2 系ガラスの構造と電気的性質の関係を検討し、そのスモ－ル・ポ－ラロン・ホッピング伝導の特徴を明らかにした。

Preparation and Physical Properties of V2O5 Aerogels

H.Hirashima, K.Sudoh

Mater.Res.Soc.Symp.Proceedings, (1992) Vol.271   573-577 1992.10

Joint Work

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V2O5湿潤ゲルをオ－トクレ－ブを用いて超臨界乾燥してエ－ロゲルを作製し、その構造を電子顕微鏡、Ｘ線回折などにより検討し、また気孔率、比表面積、導電率などの物理的性質を測定した。

Structure of Thin Sol-Gel Coatings near the Surface of Substrates

H.Hirashima, T.Kusaka

Mater.Res.Soc.Symp.Proceedings, (1992) Vol.271   493-498 1992.09

Joint Work

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ゾル-ゲル法により作製したTiO2薄膜の微細構造および膜とガラス基板の界面近傍の構造 をＸ線光電子分光、ダイナミック微小硬度の測定により検討、明らかにした。

Preparation of V2O5 Aerogels and Aerogel Coating

H.Hirashima, K.Sudoh

J.Non-Cryst.Solids, (1992) Vol.145   51-54 1992.09

Joint Work

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V2O5湿潤ゲルの超臨界乾燥によりエ－ロゲルおよびエ－ロゲル・コ－ティングを得て、その微細構造、電気的性質を明らかにした。

Structure of V2O5-TeO2 and Fe2O3-V2O5-TeO2 glasses

H.Hirashima, T.Kawaguchi, F.Tanaka, E.Tamura

The Physics of Non-Crystalline Solids, Eds. L.D.Pye, W.C.Lacourse, H.J.Stevens, Taylor & Francis, London, (1992)    266-270 1992.08

Joint Work

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半導性のV2O5-TeO2 および Fe2O3-V2O5-TeO2 系ガラスの構造とその組成による変化を、 ガラス転移点、モル体積の測定ならびに赤外線およびＸ線光電子スペクトルにより検討、明らかにした。

Formation of V2O5 Gels from Vanadyl Alkoxides

H.Hirashima, K.Tsukimi, R.Muratake

Ultrastructure Processing of Advanced Materials', Eds. D.R.Uhlmann, D.R.Ulrich, Wiley, New York (1992)    285-289 1992.07

Joint Work

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半導性V2O5ゲルを VO(OR)3 の加水分解によって得て、pH、Rの種類等の反応条件とゲルの微細構造の関係を電子顕微鏡観察、Ｘ線光電子分光などにより明らかにした。

Densification and crystallization of thin transition metal oxide coatings from metal alkoxides.

H.Hirashima，その他

Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.180   611-616 1990.12

Joint Work

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V2O5，TiO2，Mb2O5，Ta2O5等の薄膜をゾルーゲル法によって作製し，その乾燥・結晶化過程を明らかにした。

Structure and physical properties of V2O5 gels containing GeO2

H.Hirashima，K.Sudo

J.Non-Cryst.Solids Vol.121   68-71 1990.04

Joint Work

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GeO2を9.5mol％まで含むV2O5ゲルを金属アルコキシドの加水分解によって得た，GeO2濃度増加により結晶化濃度は上昇し，導電率，屈折率は共に低下した。

Fe2O3-V2O5-TeO2系ガラスの電気伝導及びその構造（第2報）構造の検討

平島 碩、田中富貴子

日本セラミックス協会学術論文誌，97（10）    1150-1154 1989.10

Research paper (conference, symposium, etc.), Joint Work

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標題の半導性ガラスの構造をXPS，メスバウァースペクトル，分子容，ガラス転移点等の測定に基づいて検討してその構造のモデルを提案した。

Preparation of PZT powders from alkoxides

H.Hirashima,W.Hsu,T.Yoshida

MRS International Meeting on Advanced Materials Vol.3   85-92 1989.10

Joint Work

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金属アルコキシドの加水分解により複合酸化物PZTの微粒子を作製してその結晶化，焼結過程を明らかにした。

Fe2O3-V2O5-TeO2系ガラスの電気伝導及びその構造（第1報）直流導電率

平島 碩、川口卓男

日本セラミックス協会学術論文誌，97（10）    1144-1154 1989.10

Research paper (conference, symposium, etc.), Joint Work

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標題の半導性ガラスの導電率と温度，組成との関係を測定して伝導機構を明らかにした。