論文 - 真壁　利明

Argon metastable state densities in inductively coupled plasma in mixtures of Ar and O2

Y. Hayashi, S. Hirao, Y. Zhang, T. Gans, D. O'connell, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J. Phys. D: Appl. Phys. 42   145206(6pp) 2009年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

A numerical investigation of atomic oxygen density in an inductively coupled plasma in O2/Ar mixture

T. Sato and T. Makabe

J.Phys.D:Appl.Phys. 41   035211(6pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

In situ measurement of plasma charging on SiO2 hole bottoms and reduction by negative charge injection during etching

T. Ohmori and T. Makabe

Appl.Surface Science 254   3696-709 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics for low-energy electrons in a two-frequency capacitively coupled plasma in Ar

M. Ishimaru, T. Ohba, Y. Hayashi, T. Ohmori, K. Kitajima, and T. Makabe

Appl.Phys.Let. 92   071501(3pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of N2 dissociation in RF plasmas by vacuum ultraviolet emission and absorption spectroscopy

T. Kitajima, T. Nakano, S. Samukawa, and T. Makabe

Plasma Sources Sci. & Technol. 17   024018(7pp) 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Space- and time-resolved E-H transition in an inductively coupled plasma in Ar

S. Hirao, Y. Hayashi, and T. Makabe

IEEE Trans. Plasma Sci. 36   1410-11 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Increased O(1D) metastable flux with Ar and Kr diluted oxygen plasmas and improved film properties of grown SiO2 film

T.Kitajima, N.Nakano, and T. Makabe

J.Vac. Sci. & Technol. A 26   1308-12 2008年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of Si etchig under effects of plasma molding in two-frequency capacitively coupled plasma in SF6/O2 for MEMS fabrication

F.Hamaoka, T.Yagisawa, and T.Makabe

IEEE Trans. on Plasma Sci. 35   1350-8 2007年10月

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Optical emission diagnostics of etching of low-k dielectrics in a two frequency inductively coupled plasma

M. Miyauchi, Y. Miyoshi, Zoran Lj. Petrovic, and T. Makabe

Solid-State Electonics 51   1418-24 2007年09月

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Plasma etching and feature evolution of organic low-k material by using VicAdress

T.Makabe, T.Shimada, and T.Yagisawa

Computer Physics Communications 177   64-7 2007年02月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Guest editorial special issue on modeling and simulation of collisional low-temperature plasmas

D. J. Economou and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 35   1194 2007年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effects of plasma modeling on feature profile of silicon micro-electro-mechanical systems through flux ion velocity distributions in two-frequency cpapcitively coupled plasma in SF6/O2

F. Hamaoka, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   3059-65 2007年

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Transport coefficients for electrons in mixtures of Ar and HBr

O.Sasic, S.Dujko, Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   3560-5 2007年

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Measurement of amount of pattern trim and surface chemistry for organic resist etching in an inductively coupled plasma in SO2-O2 gas mixtures

T. Goto and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 46   5297-303 2007年

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Data and modeling of negative ion transport in gases of interest for production of integrated circuits and nanotechnologies

Z.Lj.Petrovic, Z.M.Raspopovic, V.D.Stojanovic, J.V.Jovanovic, G.Malovic, T.Makabe, and J.de Urquijo

Appl. Surface Science 253   6619-40 2007年

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Numerical modeling of rf magnetron sputtering with metallic or dielectric target

T. Makabe and T. Yagisawa

Materials Sci. Forum 555   165-71 2007年

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Prediction of organic low-k material etching in two frequency capacitively coupled plasma

K. Ishihara, T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Plasma Physics and Controlled Fusion 48   B99-104 2006年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Modeling of feature profile evolution in SiO2 as functions of radial position and bias voltage under competition among charging, deposition, and etching in two-frequency capacitively coupled plasma

T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 45   8876-82 2006年11月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Evaluation of errors in feedback control based on persistence prediction in model-vased process controller system for deep sub-100nm gate fabrication

T. Goto and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 45   7645-54 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Self-consistent modeling of feature profile evolution in plasma etching and deposition

T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys.(Exp.Lett) 45   L132-4 2006年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り