論文 - 真壁　利明

Temporal velocity distribution of positive and negative ions incident on a wafer in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF_4_/Ar for SiO_2_ etching

T. Yagisawa and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 31   521-7 2003年08月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Electron transport coefficients in SiH4 and Si2H6 in dc and rf fields

T. Shimada, Y.N akamura, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J.Phys.D: Appl.Phys. 36   1936-46 2003年07月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Magnetron plasma structure with strong magnetic field

E. Shidoji and T. Makabe

Thin Solid Films 442   27-31 2003年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Control of charging in high aspect ratio plasma etching of integrated circuits

Z.Lj. Petrovic and T. Makabe

TELSIKS 1   119-26 2003年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transition between capacitive and inductive mode in inductively coupled plasma observed by emission computerized tomography

Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

IEEE Trans. on Plasma Science 30   130-1 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Development of optical computerized tomography in CCP and ICP for plasma etching

T. Makabe and Z. Lj. Petrovic

Appl.Surf.Sci. 192   88-114 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Kinetic phenomena in electron transport in radio frequency fields

Z. Lj. Petrovic, Z. M. Raspopovic, S. Dujko, and T. Makabe

Appl.Surf.Sci. 192   1-25 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Vertically integrated computer aided design for device processing

T. Makabe and K. Maeshige

Appl.Surf.Sci 192   176-200 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Functional design of a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF4/Ar for SiO2 etching

K. Maeshige, G. Washio, T. Yagisawa, and T. Makabe

J.Appl.Phys. 91 （ 12 ） 9494-501 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Diagnostics of a wafer interface of a pulsed two frequency capacitively oupled plasma for oxide etching by emission selected computerized tomography

T. Fujita and T. Makabe

Plasma Sources Sci & Technol 11   142-5 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical computerized tomography of the E-H transition in inductively coupled plasmas in Ar and Ar-CF4 mixtures

Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

J. Phys. D: Appl. Phys. 35   454-61 2002年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Influence of gas pressure and magnetic field upon dc magnetron discharge”

E. Shidoji, K. Ness and T. Makabe

VACUUM 60   299-306 2001年03月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

The effect of topographical local charging on the etching of deep-submicron structures in SiO_2_ as a function of aspect ratio"

J. Matsui, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

Appl.Phys.Let. 78   883-5 2001年02月

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Radio-Frequency plasma modeling for low-temperature processing

T. Makabe

Adv.in Atomic, Molecular and Optical Physics 44   127-54 2001年01月

研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り

Future TCAD system for nanometer-scale-device manufacturing using plasma etching

T. Makabe, J. Matsui, and K. Maeshige

AIPP    2263-71 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Two-dimensional modeling of a micro cell plasma in a mixture of Ne/Xe driven by a capacitively coupled high-frequency source

M. Kurihara and T. Makabe

J.Appl.Phys. 89   7756-63 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Transport coefficients and scattering cross-sections for plasma modeling in CF4-Ar mixtures: a swarm analysis

M. Kurihara, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe

J.Phys.D: 33   2146-53 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Optical emission spectroscopy of pulsed inductively coupled plasma In Ar

K. Hioki, N. Itazu, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe

Jpn.J.Appl.Phys. 40   L1183-6 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Non-equillibrium plasmas in telecommunication related technologies

Z. Lj. Petrovic, Z. M. Paspopovic, and T. Makabe

TELSIKS 1   371-380 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り

Effect of aspect ratio on topographic dependent charging in oxide etching

J. Matsui, K. Maeshige, and T. Makabe

J.Phys.D 34   2950-5 2001年

研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り