論文 - 真壁 利明
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Computer-assisted optical emission tomography in a radiofrequency capacitively coupled plasma
K.Kitajima，M.Izawa，R.Hashido，N.Nakano，and T.Makabe
Appl. Phys. Lett. 69 758-60 1996年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Diagnostics of a non-equilibrium inductively coupled plasmas in argon
A. Okigawa, Z. Petrovic, M. Tadokoro, T. Makabe, N. Nakano, and A. Itoh
Appl. Phys. Lett. 69 2644-6 1996年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Effect of O2(a^1Δg) on plasma structure in oxygen rf discharges
M. Shibata, N. Nakano and T. Makabe
J. Appl. Phys. 80 6142-7 1996年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Modeling of narrow gap reactive ion etcher by the relaxation continuum model
N. Nakano and T. Makabe
Physics of Ionized Gases 269-78 1996年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Robot assisted optical emission tomography in a CCP and ICP
T.Makabe
Physics of Ionized Gases 257-68 1996年
研究論文（国際会議プロシーディングス）, 単著, 査読有り
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Modeling of negative ion plasma (in Japanese)
T.Makabe
J.Plasma & Fusion Reseach 52 1138-43 1996年
研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り
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Effect of surface material on spatio-temporal structure in O2 RF glow discharge
M.Shibata，T.Makabe，and N.Nakano
Jpn.J.Appl.Phys. 34 6230-6 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Influence of driving frequency on narrow-gap reactive-ion etching in SF6
N. Nakano and T.Makabe
J. Phys. D 28 31-9 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Study of surface charges on dielectric electrodes in a radio-frequency glow discharge
S. Kakuta, T. Kamata, T.Makabe, S. Kobayashi, K. Terai, and T. Tamagawa
J.Appl.Phys. 77 985-91 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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O2 rf discharge structure in parallel plates reactor at 13.56MHz.
M.Shibata，N.Nakano, and T.Makabe
J.Appl.phys 77 6181-7 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Modeling and measurement of submicron particles in RF plasmas in Ar.
Y.Hosokawa，T.Kitajima, and T.Makabe
Aust.J.Phys 48 439-52 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Frequency variation of the mean energy of rf electron swarm.
R.E.Robson，K.Maeda，T.Makabe and R.D.White
Aust.J.Phys 48 335-46 1995年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Recent progress and issues in low temperature plasma modeling for material processings (in Japanese)
T.Makabe
Oyo Buturi 64 547-552 1995年
研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り
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Low temperature SF6 plasma and related semiconductor processings (in Japanese)
T.Makabe
IEE of Jpn. 115(8) 492-4 1995年
研究論文（学術雑誌）, 単著, 査読有り
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Radiofrequency electron swarm transport in gases
K.Maeda and T.Makabe
AIAA 160-160 333-43 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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The radical transport in the narrow-gap-reactive-ion etcher in SF6 by the relaxation continuum model
N.Nakano，Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe
Jpn.J.Appl.Phys. 33 2223-30 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Simulations of rf glow discharge in SF6 by the relaxation continuum model: Physical structure and function of the narrow-gap reactive-ion etcher
N.Nakano，N.Shimura，Z.Lj.Petrovic and T.Makabe
Phys. Rev. E 49 4455-65 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Transport coefficients and velocity distribution function of an ion swarm in an A.C.electric field obtained from the BGK kinetic equation
R.Robson and T.Makabe
Aust.J.Phys. 47 305-14 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Influence of Ar metastable on the discharge structure in Ar and N2 mixture in RF discharges at 13.56 MHz
F.Tochikubo，Z.Lj.Petrovic，S.Kakuta，N.Nakano and T.Makabe
Jpn.J.Appl.Phys. 33 4271-5 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り
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Time-dependent RF swarm transport by direct numerical procedure of the Boltzmann Equation
K.Maeda and T.Makabe
Jpn.J.Appl.Phys. 33 4173-6 1994年
研究論文（学術雑誌）, 共著, 査読有り